氨逃逸一體化在線監測系統（NH3、NO、O2）基于可調諧半導體激光吸收光譜和紫外差分吸收光譜技術原理。系統包括預處理、氣體分析模塊和數據處理與顯示三大部分。被測氣體經過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進入高溫氣體分析模塊分析測量（歡迎免費注冊，登陸中國涂料在線（涂料在線）行業門戶網址www.zx446.com，免費發布供求，免費發布產品，免費發布企業動態）。有效的解決了銨鹽低溫結晶堵塞流路，冷凝水析出溶解NH3導致的測量精度偏低，原位式系統高粉塵衰減光路導致無法測量等技術難題。

氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結性）使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；

系統特點

“單線光譜”吸收技術避免背景氣體干擾、檢測下限低、量程漂移小；

220℃以上伴熱避免銨鹽結晶及水份吸收；

結構緊湊、便于安裝，自動化程度高、維護量小；

多參數集成于同一系統，同時測量成本低。

系統規格

測量技術：可調諧半導體激光吸收光譜

技術紫外差分吸收光譜技術+氧化鋯

量程范圍：NH3：0～10～1000ppm

NO：0～50～5000ppm

O2： 0～25%

線性誤差：≤±1%F.S.

重復性：≤1%

響應時間：＜90s(T90)

零點漂移：≤±1%F.S./半年

量程漂移：≤±1%F.S./半年

模擬量輸出：5路4-20mA輸出

模擬量輸入：3路4-20mA輸入

數字通訊：RS485/RS232/GPRS

檢測下限：0.1ppm(10m光程)

吹掃氣源：(0.4～0.8)MPa氮氣、 凈化儀表空氣